Blanco de tantalio
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Objetivos de pulverización catódica de aleación de níquel, cobalto, cromo, aluminio, itrio y tantalio de aleación de NicocralytaDescripción general del producto Suministro de fábrica XinKang Top Ranking NiCoCrAlYTa aleación Níquel Cobalto Cromo Alu
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ACETRON 4N 99,99 % objetivo redondo de tantalio de alta pureza para revestimiento al vacío/PVDInformación general Descripción del producto Acetron Catálogo de productos en línea Capacidad de suministro Para materi
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Recubrimiento PVD de objetivo de pulverización catódica de magnetrón de vacío de tantalio de alta purezaPreguntas frecuentes: P1: ¿Qué tipo de control de calidad de sus productos proporcionó? A1: TQC para materia prima, fabr
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ACETRON 4N 99.99% Blanco de pulverización catódica rotativa de tantalio de alta pureza para revestimiento al vacío/PVDInformación general Descripción del producto Acetron Catálogo de productos en línea Capacidad de suministro Para materi
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Objetivo de pulverización catódica de aleación de titanio, itrio, aluminio, cromo, níquel, cobalto, 99,9 % para procesos de PVDDisponible para COA (Certificado de análisis) Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd (XK) es una empresa internaci
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R05200 Objetivo de tantalio para fines electrónicosObjetivo de tantalio, objetivos de pulverización catódica de tantalio, objetivos de aleación de tantalio y tungsteno Mat
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ACETRON 4N 99,99% Blanco de pulverización catódica de tantalio de alta pureza para revestimiento al vacío/PVDInformación general Descripción del producto Acetron Catálogo de productos en línea Capacidad de suministro Para materi
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ACETRON 4N 99.99% Objetivo de tubo de tantalio de alta pureza para revestimiento al vacío/PVDInformación general Descripción del producto Acetron Catálogo de productos en línea Capacidad de suministro Para materi
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Objetivo de pulverización catódica de aleación de titanio, itrio, aluminio, níquel, cobalto, cromo, 99,9 %Resumen Descripción del producto Fuente de fábrica XinKang Clasificación superior 3N5 99.95% Ductilidad Hoja de tantalio
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Mayor pureza 3n5 99,95% ductilidad hoja de tantalio objetivo de pulverización catódica para recubrimiento al vacíoResumen Descripción del producto Fuente de fábrica XinKang Clasificación superior 3N5 99.95% Ductilidad Hoja de tantalio
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Recubrimiento al vacío de alta ductilidad Objetivo de cromo tantalioFotos detalladas Parámetros del producto Proceso de fabricación Perfil de la empresa ACERCA DE USHUALONG HOLDING Industr
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Placa de aleación Ta-Mo Objetivo de pulverización de molibdeno y tantalioObjetivo de pulverización catódica de molibdeno Mo1 Objetivo de molibdeno Descripción del producto: El objetivo de moli