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Objetivo de pulverización catódica al vacío de tantalio de alta pureza

Objetivo de pulverización catódica al vacío de tantalio de alta pureza

Preguntas frecuentes: P1: ¿Qué tipo de control de calidad de sus productos proporcionó? A1: TQC para materia prima, fabr;
Información básica
N º de Modelo.objetivo de tantalio
TipoObjetivo de aleación
FormaRedondo
Pureza99,99%
ClasificaciónMaterial objetivo de tantalio
Paquete de transporteCaja de madera contrachapada
Especificación304,8 L x 228,6 W x 6 H mm (personalizado)
Marca comercialGrava
OrigenPorcelana
Código hs8103999000
Capacidad de producción10000
Descripción del Producto

High Purity Tantalum Vacuum Sputtering Target

High Purity Tantalum Vacuum Sputtering Target

High Purity Tantalum Vacuum Sputtering Target

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Preguntas frecuentes: P1: ¿Qué tipo de control de calidad de sus productos proporcionó? A1: TQC para materia prima, fabricación, salida y servicio al cliente. P2: ¿Cómo puede responder rápidamente a las solicitudes de los clientes? A2: Contamos con ingenieros de productos profesionales con Actitud de satisfacción del cliente, buena gestión de recursos de productos.
P3: ¿Cree que sus productos tienen un precio competitivo? A3: Implementamos completamente el sistema de gestión de calidad ISO9001, al mismo tiempo, tenemos un estricto sistema de gestión de costos, junto con la optimización del control de fabricación y la tasa de desecho más baja.

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